Российская Федерация в 2026 году начнёт реализацию проекта по созданию литографа, предназначенного для производства чипов с топологией 90 нм. Об этом сообщил заместитель министра промышленности Василий Шпак на научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности, прошедшей 20 марта 2026 года.
Ответственный за выполнение работ будет выбран по итогам конкурса. В проекте участвует Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ), который работает совместно с белорусским предприятием «Планар». Ранее эти компании занимались разработкой литографов с разрешением 350 нм и 130 нм.
Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв заявил, что решение о участии в конкурсе пока не принято. В то же время, к ноябрю 2026 года центр планирует завершить разработку степпера на 130 нм. Представители Минпромторга пока не прокомментировали детали создания нового литографа.
Академик Дмитрий Пшиченко, эксперт РИНКЦЭ, отметил, что построение полноценного литографа с нуля займет от пяти до десяти лет и потребует значительных инвестиционных затрат. В случае локализации существующих технологий, сроки могут сократиться до двух-четырёх лет.
Пшиченко также подчеркнул, что успешная разработка литографа зависит не только от оборудования, но и от наличия экосистемы фотошаблонов и материалов. Без соответствующей инфраструктуры массовое производство остаётся под вопросом.
При этом разработка литографа на 130 нм не потребует создания нового оборудования, исключительно модификаций существующих элементов. Эксперт Алексей Бойко отметил, что литограф на 130 нм может быть адаптирован для производства чипов с разрешением 90 нм с применением двукратного экспонирования.
На данный момент в России уже успешно разработан литограф с разрешением 350 нм, а работа над устройством на 130 нм продолжается. Ожидаемая стоимость литографа с длиной волны 130 нм составит 6 миллионов долларов, при этом производительность обещает достигать 100-140 пластин в час.